四月二十六日。

硅谷。

GCA总部。

“公司拿出200万美元奖励GCA3500B项目部。”

周五下午，孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话，第二天就乘飞机来到硅谷。

啪啪……

艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容，扬眉吐气。

GCA光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，安装在一台GCA3500A光刻机上，制程工艺突破350nm，通过多次测试，最高达到320nm，命名为GCA3500B，制程工艺超过Nikon3500B光刻机，还提升47%的生产效率，创了新的世界纪录！

去年底研制成功GCA3500A是一个巨大的突破，与Nikon3500B光刻机的制程工艺看起来相同，但由于安装有适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，GCA3500A的制程工艺和生产效率明显超过Nikon3500光刻机，经过Sematech专家组技术认证后，II、AMD和HP半导体设备公司预定了五台GCA3500A光刻机。

紧接着，GCA股东大会通过并实施向10名特定投资者以每股1.5美元的价格，定向增发10亿新股的方案，其中PENG购买了3亿股，ATIC购买了2亿股，GCA融资145500万美元，现金流大增，召回和招聘了400多名研发人员和技术工人，启动了3条光刻机半导体设备生产线，如今能同时生产五台GCA3500A光刻机。

随着5台GCA3500A光刻机的交付使用，用户反应良好，II、AMD和HP等公司又预定了14台GCA3500A光刻机，还从台积电拿到一条价值60亿美元的8英寸晶圆和以GCA3500A为主的半导体生产线订单。

为了提高芯片生产工艺和一小时单位产能（WPH），一家晶圆厂（FAB）在一条先进的半导体生产线上一般配备20台左右的光刻机，高低搭配，除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外，上面做铜互联技术的无需最先进的光刻机。

一条半导体生产线中，除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外，还需要清洗设备、高温/氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、CVD/PVD/ALD/PECVD/CMP等大批高精尖设备，数量最多的是沉积设备（包括PVD CVD）、刻蚀设备（ICP、CCP、DIE）和热处理设备（RTP），GCA如今六成需要从其他半导体设备厂定购，然后系统集成。

GCA如今专心生产光刻机、刻蚀机、硅晶圆、光刻胶、掩膜版和离子注入机，重生者也不担心GCA被人制裁！

GCA的股价如今2.95美元，GCA3500B研制成功的消息一旦公布于众，第二天的股价突破4美元都有可能。

GCA的战略投资者赚得盆满钵满，对华人首富点石成金的本领佩服不已。

GCA3500A研制成功后，美国商务部和Sematech发来贺电，圣何塞布朗市长到场祝贺。

GCA管理层、技术团队和普通员工欢欣鼓舞，干劲十足。

GCA3500B光刻机的研制成功，GCA重回全球光刻机之巅，重新领导全球光刻机产业发展的步伐，对GCA的意义如同浴火重生、凤凰涅槃，在同日本半导体产业竞争中取得暂时领先的优势，对美国半导体产业的发展也具有重大意义。

全球近八成高端芯片的订单来自II、AMD和HP等美国高科技公司，这些公司都是Sematech会员。

Sematech也是扬眉吐气，赶超Nikoech会员的共同目标，II、AMD和HP等美国半导体设备和生产公司将会抢先预定GCA3500B光刻机和由GCA3500B光刻机为主构成的半导体生产线。

按照双方签订的专利技术转让协定，GCA研制的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术将交给BSEC，BSEC将在国内专利局和国际专利局分别申请公司发明专利。