但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。

在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。

看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”

但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。

陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。

把dapcvd法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的pdf文件。

最后一个制备方法。

微波等离子体cvd法，也就是mpcvd法。

是四十三所所采用的的方法。

也是陈舟查这么文献的目的。

和dapcvd法被报道的时间，仅相隔一年。

这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。

这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将2~5w的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。

而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。

和dapcvd法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。

现如今，这种方法已经形成了多种形式。

不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。

它们的沉积速率，都是和微波功率有关的。

举个例子，用5kw微波功率的mpcvd法，可以以10μmh的速率沉积工具级金刚石薄膜，以8μmh的速率沉积热沉级金刚石薄膜，以3μmh的速率沉积光学级金刚石薄膜。

而用10kw微波功率的时候，他的沉积速率可以达到25μmh。

也就是说，通过增大微波功率，可以提高金刚石薄膜的沉积速率。

除此之外，金刚石薄膜的沉积速率还和气体压力有关。

在高微波功率，高的甲烷与氢气体积流量比，160torr气体压力下，可以制备出150μmh的多晶金刚石薄膜。

如果在同等条件下，将压力提高至310torr下，可以制备出165μmh的单晶金刚石薄膜。

“气体压力……”

“微博功率……”

陈舟在草稿纸上写下这两个词汇。

拿笔点了两下，随手便划了两个圈。

这是重点。

放下笔，陈舟滑动鼠标，继续看文献的内容。

mpcvd法之所以会成为最广泛的方法，是因为这种方法比dapcvd法制备的金刚石薄膜质量更好。

很好的解决了膜的致密度不高的问题同时，还可以产生大体积的金刚石薄膜。

此外，这种方法还能在曲面或者复杂表面上进行金刚石薄膜的沉积。

而且mpcvd法无内部电极，可以避免电极放电污染和电极腐蚀。

可以说是满足了制备高质量金刚石薄膜的条件。

但是，就像四十三所实验室的装置一样，mpcvd法的沉积速率是硬伤。

看完了这篇详细介绍mpcvd法的文献后，陈舟不禁想到。

“如果有dapcvd法一半的速度，再加上mpcvd法的制备质量，那这事不就成了吗？”

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